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2026中國（深圳）國際半導(dǎo)體展覽會

China (Shenzhen) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2026

展會時間：2026年4月9日-11日

論壇時間：2026年4月9日-11日

展會地點：深圳國際博覽中心

展會規(guī)模：50,000平方米、800家展商、90,000名專業(yè)觀眾  

展會介紹

     中國市場的半導(dǎo)體銷售占了全球的 1/3，是份額最大的，相當于美國、歐盟及日本的總和，這主要是因為中國是全球制 造的中心，尤其是電腦、手機產(chǎn)量第一，消耗了最多的芯片。隨著人工智能的快速發(fā)展，以及 5G、物聯(lián)網(wǎng)、節(jié)能環(huán)保、新能源汽 車等戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)的推動下，半導(dǎo)體的需求持續(xù)增加。預(yù)計 2026年中國半導(dǎo)體市場需求規(guī)模將擴大，市場需求規(guī)模有 望達到 19850 億元。 為更好的推動半導(dǎo)體業(yè)界交流互動，提升半導(dǎo)體行業(yè)國際化水平，“2026 中國（深圳）國際半導(dǎo)體展覽會（CDISEE-2026）” 將于 2026 年 4月9-11日在深圳國際博覽中心隆重召開。CDISEE-2026分為展覽會、高峰論壇和學(xué)術(shù)會議三大板塊，是半 導(dǎo)體行業(yè)的年度盛會，也是半導(dǎo)體行業(yè)和相關(guān)產(chǎn)業(yè)交流合作的綜合性專業(yè)展示平臺。

同期活動：展會期間還將舉辦中國半導(dǎo)體發(fā)展高峰論壇、中國電子電路應(yīng)用發(fā)展論壇、新產(chǎn)品與新技術(shù)發(fā)布會、買家見面會等多場論壇與活動，通過活動的舉辦聚焦行業(yè)前沿的高端研討會、現(xiàn)場互動多樣的活動及務(wù)實高效的專業(yè)買家對接會等，豐富的展會內(nèi)容向業(yè)內(nèi)人士以及各界傳遞最新、最全的行業(yè)資訊。

展示內(nèi)容：

一、半導(dǎo)體材料：單晶硅、硅片、鍺硅材料、S01 材料、太陽能電池用硅材料及化合物半導(dǎo)體材料、石英制品、石墨制品、防靜電材料等；

集成電路用化學(xué)品及新材料：光刻膠、高純試劑、電子特氣、半導(dǎo)體材料、導(dǎo)電聚合物、液晶聚合物、聚酯薄膜、抗靜電材料、抗蝕劑、工程材料、封裝材料；

二、半導(dǎo)體設(shè)備：半導(dǎo)體封裝設(shè)備、半導(dǎo)體擴散設(shè)備、半導(dǎo)體焊接設(shè)備、半導(dǎo)體清洗設(shè)備、半導(dǎo)體測試設(shè)備、半導(dǎo)體制冷設(shè)備、半導(dǎo)體氧化設(shè)備等；

三、半導(dǎo)體分立器件產(chǎn)品與應(yīng)用技術(shù)等；

四、半導(dǎo)體光電器件；

五、人工智能芯片、顯示芯片、驅(qū)動芯片、電源管理芯片、電器芯片、傳感器芯片、物聯(lián)網(wǎng)芯片、通信芯片、交通電子芯片、計算機及控制芯片、半導(dǎo)體芯片、存儲器芯片、5G芯片、車規(guī)級芯片、醫(yī)療芯片、音視頻處理芯片、芯片設(shè)計等等：

芯片制造設(shè)備、芯片封裝測試、芯片材料、半導(dǎo)體專用設(shè)備和材料等；

六、集成電路終端產(chǎn)品；

中微公司推出的12英寸原子層沉積產(chǎn)品Preforma Uniflash?金屬柵系列，涵蓋Preforma Uniflash? TiN、Preforma Uniflash? TiAI及Preforma Uniflash? TaN三大產(chǎn)品，能夠滿足先進邏輯與先進存儲器件在金屬柵方面的應(yīng)用需求。

新興技術(shù)領(lǐng)域方面，中微公司發(fā)布的全球首款雙腔減壓外延設(shè)備PRIMIO Epita? RP，可滿足從成熟到先進節(jié)點的邏輯、存儲和功率器件等多領(lǐng)域外延工藝需求，并已于去年8月付運到客戶進行成熟制程和先進制程驗證，且進展順利。

中微公司PRIMIO Epita? RP  圖源：中微公司公眾號

中微公司董事長兼總經(jīng)理尹志堯在主旨報告環(huán)節(jié)中表示，中微公司始終以市場與客戶需求為導(dǎo)向，持續(xù)加大研發(fā)力度。公司2025年上半年研發(fā)投入達14.92億元，同比增長約53.70%，研發(fā)投入占公司營業(yè)收入比例約為30.07%。目前，公司在研項目涵蓋六大類、超二十款新設(shè)備，研發(fā)速度實現(xiàn)跨越式提升——過去一款新設(shè)備的開發(fā)周期通常為3到5年，如今僅需2年甚至更短時間就能推出極具市場競爭力的產(chǎn)品并順利落地。